近日，我工作室博士生李超关于无铅压电KNN薄膜与STO基底的界面结构的文章在Scientific Reports（IF: 5.228）上以“Atomic Resolution Interfacial Structure of Lead-free Ferroelectric K_0.5Na_0.5NbO₃ Thin films Deposited on SrTiO₃”为题在线发表。

  由于晶格转变、位错和界面处的组分变化会引起材料独特的性能，氧化物界面工程越来越受到人们的关注和热捧。无铅压电材料KNN作为环境友好型材料已被广泛研究。在本文中，通过STEM技术结合EELS谱图对无铅压电材料：KNN薄膜和单晶SrTiO₃基片界面的原子分辨率结构和组分进行了分析研究，研究发现在外延表面存在着Nb和Ti以3:1比例组成的单层原子。第一性原理计算表面界面单层有着不同的电子结构，在接近界面的KNN薄膜的电荷不对称上扮演着至关重要的角色。同时，在材料中还观察到了KNN/STO界面的大晶格应变的平缓弛豫过程，是通过应变工程对KNN薄膜的很好的结构调制行为。

  本研究得到了国家自然科学基金委的支持。

论文链接：http://www.nature.com/articles/srep37788